カメラや複合機、半導体露光装置などを手がけるキヤノンは１３日、ナノインプリントリソグラフィ（ＮＩＬ）技術を応用、ウエハーを平坦化する「Ｉｎｋｊｅｔ−ｂａｓｅｄ Ａｄａｐｔｉｖｅ Ｐｌａｎａｒｉｚａｔｉｏｎ」（ＩＡＰ）技術を開発し、実用化したと発表した。
同社では、インクジェット方式でレジスト（樹脂）を塗布したウエハーに、回路パターンを刻み込んだマスク（型）をハンコのように押し当てて回路を転写するＮＩＬ技術を開発し、半導体製造装置「ＦＰＡ−１２００ＮＺ２Ｃ」を２３年１０月に発売。今回開発したＩＡＰ技術は、このＮＩＬ技術を平坦化用途に応用した。ウエハー表面の凹凸分布に応じて、インクジェット方式で平坦化材料（樹脂）を最適に配置し、その上から平坦ガラス板を押し当てる。それにより、凹凸の粗密や回路パターンの違いに左右されることなく、直径３００ｍｍのウエハー全面を一括の押印工程で高精度に平坦化することが可能としている。
１４日の終値は、前日比９８円高の４８２２円。
［ 株式新聞ダイジェスト ］ 提供：ウエルスアドバイザー社
